场发射环境扫描电子显微镜
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钨灯丝扫描电子显微镜
产品介绍

型号:Quanta 400 FEG
厂家:美国FEI
主要用途 1.可在高真空、低真空(130Pa)、环境真空(4000Pa)下观察导电和不导电样品,对材料的表面和横截面的微观形貌、成分进行分析,广泛应用于金属材料、高分子材料、半导体材料、纳米材料等领域; 2.配备的Apollo40 SDD能谱无需液氮制冷,可进行快速的点、线、面分布分析,获得能谱的mapping图谱; 3.其样品室直径达284 mm,对于直径达四英寸硅片可以直接进行测试,无需对样品进行分割处理; 4.附件MonoCL3+阴极荧光谱仪不仅可以测量材料微区在电子束激发下的发光光谱,而且可以进行成像 显示,从而可以对样品的禁带宽度、杂质缺陷等进行表征,获取更为丰富的信息; 5.可以测量材料的电子束感生电流(EBIC),从而获得材料内部结构缺陷等信息,与阴极荧光测量互为补充。 主要配置 1. MonoCL3+阴极荧光谱仪,波长范围160-930nm 2.电子束感生电流(EBIC) 3.STEM探测器 4.Apollo 40 SDD能谱仪 5.液氮冷台,温度范围为-185℃- +200℃ 6.液氦冷台,温度范围为6K-300K 性能指标 1.肖特基场发射电子枪 2.加速电压:200V-30 kV 3.放大倍数:12-2,000,000 4.分辨率 高真空 - 0.8nm at 30kV (STEM) - 1.2nm at 30kV (SE) - 2.5nm at 30kV (BSE) - 3.0nm at 1kV (SE) 低真空 - 1.5nm at 30kV (SE) - 2.5nm at 30kV (BSE) - 3.0nm at 3kV (SE) 环境真空 - 1.5nm at 30kV (SE) 样品室 284mm,5轴马达台 EDS分辨率 优于136 eV,可分析包括B5以上的所有元素